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本实用新型公开了一种连续真空镀膜装置，涉及真空镀膜领域，其技术方案要点是：包括机体，机体上设置有转动盘和两个镀膜腔，两个镀膜腔固定连接且竖直滑动设置，转动盘上环形阵列有与入料槽对应的若干放置盘，放置盘顶端设置有密封部，密封部外周壁套设有密封环，入料槽内壁设置有与密封部对应的压紧面，入料槽还设置有朝向放置盘延伸的挤压部。本实用新型通过镀膜腔的入料槽与放置盘的密封部卡接，使得压紧面下压密封部发生一定形变，同时压紧面压紧密封部时，挤压部通过光的斜面与支撑部相互挤压，使得挤压部发生朝向密封部的形变，进而
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220746070U
(45)授权公告日2024.04.09
(21)申请号202321988705.X
(22)申请日2023.07.27
(73)专利权人苏州仕科泰新材料科技有限公司
地
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