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本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；目标绝缘层，设置在衬底基板的一侧；发光结构层，设置在目标绝缘层的远离衬底基板一侧，发光结构层包括多个阵列排布的底发射发光器件；以及位于发光器件出光一侧的反射结构。其中，反射结构包括：第一凹槽以及设置于第一凹槽的第一侧壁的反射部。第一凹槽位于目标绝缘层，第一侧壁为远离发光器件的发光区的侧壁。反射部相对于衬底基板的表面倾斜设置，反射部的底端到发光区的距离小于反射部的顶端到发光区的距离。反射部在衬底基板上的正投影位于发光区在衬底
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117858571A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410039828.1
(22)申请日2024.01.10
(71)申请人京东方科技集团股
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