膜色均匀和膜厚均一性良好的薄片APCVD成膜加工方法.pdfVIP

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2024-04-10 发布于四川
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膜色均匀和膜厚均一性良好的薄片APCVD成膜加工方法.pdf

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本发明涉及一种膜色均匀和膜厚均一性良好的薄片APCVD成膜加工方法，所属硅片加工技术领域，APCVD设备有三个喷头，用于调整硅烷与氧气的比例，托盘的行进速度制备二氧化硅膜。包括如下操作步骤：第一步：以三喷头同时开启，设定托盘速度，在同一硅烷流量下进行成膜，测试膜厚。第二步：换算2个喷头时的托盘速度，按照3个喷头成膜的厚度及托盘速度进行换算。第三步：选择连续的2个喷头呈打开状态，另一个喷头呈闭合状态。第四步：设置不同的硅烷流量配比，氧气流量按照硅烷与氧气的比例进行设置。第五步：选择不同的配比进行加

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117845189A

(43)申请公布日2024.04.09

(21)申请号202311700001.2

(22)申请日2023.12.12

(71)申请人杭州中欣晶圆半导体股份有限公司

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