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本发明属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种钼铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属层的制备方法。本发明提供的蚀刻液的成分包括：磷酸、硝酸、羧酸化合物、缓蚀剂和表面活性剂；缓蚀剂至少包括乙酸铵；磷酸在蚀刻液中的含量为30~70wt%，硝酸在蚀刻液中的含量为8~20wt%，羧酸化合物在蚀刻液中的含量为1~20wt%，乙酸铵在蚀刻液中的含量为5~17wt%。该蚀刻液不含醋酸，通过引入乙酸铵并提高硝酸含量，延长蚀刻液使用寿命、避免频繁硝酸补液，且能有效控制taper角。此外，本发明引入氨基氮唑类缓蚀剂与乙酸铵复配，能
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117867501A
(43)申请公布日2024.04.12
(21)申请号202410277691.3
(22)申请日2024.03.12
(71)申请人芯越微电子材料（嘉兴）有限公司
地
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