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本发明公开了一种提高SRO垂直度的方法及封装基板、电子设备、存储介质，涉及封装结构技术领域。该方法包括：获取待加工基板；在待加工基板的表面涂布绿油层；按照预设的贴附参数，在绿油层的预设位置贴附预设厚度的透明保护膜；透明保护膜的预设厚度根据曝光机的光源以及SRO的需求垂直度确定；对绿油层进行整平；曝光机利用光源对绿油层进行曝光，曝光过程中，透明保护膜对光源进行过滤，以提高SRO的垂直度；去除透明保护膜，对曝光后的绿油层进行显影，获得SRO。根据本发明实施例的提高SRO垂直度的方法，通过在绿油层上贴
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117872686A
(43)申请公布日2024.04.12
(21)申请号202311821034.2
(22)申请日2023.12.27
(71)申请人成都海威华芯科技有限公司
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