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一种单原子钌修饰蓝黑二氧化钛膜电极及其制备方法和应用.pdfVIP

一种单原子钌修饰蓝黑二氧化钛膜电极及其制备方法和应用.pdf

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    本发明提供一种单原子钌修饰蓝黑二氧化钛膜电极及其制备方法和应用，单原子钌修饰蓝黑二氧化钛膜电极的孔径为200‑500μm，孔隙率为75％‑90％，钌的负载量为0.2‑1.0wt％。其中，制备方法包括以下步骤：步骤S1，3D打印三维有序多孔二氧化钛膜电极；步骤S2，将所述三维有序多孔二氧化钛膜电极进行电化学还原处理，得到蓝黑二氧化钛膜电极；步骤S3，将所述蓝黑二氧化钛膜电极置于钌前驱体分散液中，进行紫外光照处理，得到单原子钌修饰蓝黑二氧化钛膜电极。根据本发明实施例的单原子钌修饰蓝黑二氧化钛膜电极，

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117865289A

    (43)申请公布日2024.04.12

    (21)申请号202410043718.2

    (22)申请日2024.01.11

    (71)申请人中国矿业大学（北京）

    地址10

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