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2024-04-13 发布于四川
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一种光栅形貌校正压印母版及校正方法.pdf

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本发明提供的光栅形貌校正压印母版及校正方法，压印母版包括设置于基底表面的若干呈周期性排列的压印单元，压印单元包括压印结构和压印补偿结构，压印结构覆盖并贴合于基底的部分表面，压印补偿结构沿压印结构延伸的方向贴合于所述压印结构靠近所述基底的一端；基于该压印母版所形成的光栅形貌校正方法，使得刻蚀的形貌与现有技术相比，刻蚀转移结构顶部“收缩”现象改善明显，刻蚀顶切消失，光栅结构的上下齿偏差极小，刻蚀垂直度＞87°；因此，通过对压印母版结构进行补偿，设置压印补偿结构，可以实现校正刻蚀转移形貌的效果，大大改

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117872677A

(43)申请公布日2024.04.12

(21)申请号202410275870.3

(22)申请日2024.03.12

(71)申请人华中光电技术研究

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