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- 2024-04-13 发布于四川
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本实用新型公开了一种炉腔内部流场均匀化输送架构,包括:反应炉体结构,包括炉腔壁及炉内腔;进气结构,固接装配于炉腔壁;绕管导气结构,与进气结构的进气端口之间相接通设置,且绕管导气结构与炉内腔之间分散多点相接通设置;置物架体结构,对应位于炉内腔的内部;置物架体结构的外壁与炉腔壁的内侧壁之间对应形成输导通道,且置物架体结构的内部固接装配有若干组导向层板;输导通道与若干组导向层板的一端部之间相接通设置;扰动风扇结构,吸入端部与若干组导向层板的另一端部之间相对应设置。解决了现有技术中针对炉腔内部流场设置单
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220761006U
(45)授权公告日2024.04.12
(21)申请号202322605223.8F27B14/04(2006.01)
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