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本发明适用于半导体技术领域，公开一种用于等离子体反应装置中的零部件、零部件表面形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置。等离子体反应装置包括反应腔，反应腔内为等离子体环境，零部件暴露于等离子体环境中，零部件包括涂覆于零部件本体表面的耐等离子体涂层，耐等离子体涂层包括至少两层膜层，膜层为稀土金属化合物，稀土金属化合物包括稀土金属元素的氧化物、氟化物或氟氧化物中的至少一种，且相邻两膜层具有不同的晶粒生长方向。本发明提供的零部件，通过在零部件的表面涂覆耐等离子体涂层，提高零部件的耐热冲击性能，且耐等
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN113539771A
(43)申请公布日
2021.10.22
(21)申请号20201
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