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本申请提供了一种涂胶腔室及涂胶设备。所述涂胶设备包括承载台，且所述承载台具有用于承载待加工元件的承载面，所述涂胶腔室包括第一壳体，用于收容所述承载台部分；第二壳体，罩设于所述第一壳体上，并与所述第一壳体间隔设置以形成收容腔，所述收容腔用于至少收容承载于所述承载面；以及清洗组件，设置于所述第二壳体顶部，并于所述收容腔连通，配置为向所述收容腔输送用于清洗涂胶残留物的清洗溶剂。通过上述设置，能够缓解涂胶工艺过程中排气通道处光阻残留的问题，提高光阻成膜的稳定性，并可实现清洗过程与涂胶工艺过程同时进行，由
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220759823U
(45)授权公告日2024.04.12
(21)申请号202322060779.3
(22)申请日2023.07.31
(73)专利权人武汉新芯集成电路制造有限公司
地
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