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本申请涉及一种基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，所述方法包括：安装待镀膜的工件及监控片；初始化并加载镀膜工艺；绘制圆周光谱曲线并定位监控片在产品转盘上的角度位置；镀膜工艺程序的自动执行；在镀膜过程中，实时采集监控片的光谱能量数据，拟合出当前膜层的真实厚度；并以此计算换层判停时间并触发换层判停逻辑；在换层后，对下一个膜层进行镀膜，直至完成镀膜工艺中的所有膜层。该技术方案，可以准确地定位到换层位置，避免了采用常规的以评价函数方法来控制换层的延时缺陷，可以确保成膜过程中对各个膜层厚度监控的精准度，特别是在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117867461A
(43)申请公布日2024.04.12
(21)申请号202311873459.8(51)Int.Cl.
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