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2024-04-13 发布于四川
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一种刻蚀机中的腔体以及刻蚀机.pdf

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本实用新型涉及半导体加工领域，提供了一种刻蚀机中的腔体，腔体包括：上腔体，上腔体底部设有至少两个定位销，且定位销至少包括一沿竖直方向向下逐渐收缩的第一锥形段；下腔体，下腔体设置于上腔体的底部；以及内衬，内衬设置于上腔体和下腔体之间；其中，内衬对应定位销的位置设有第一定位孔，且第一定位孔至少包括一沿竖直方向向下逐渐收缩的第二锥形段，在本实用新型中，腔内升温时，内衬可以在第一定位孔内产生膨胀，从而由第二锥形段向第一锥形段挤压产生斜向上的力，而同时上腔体的重量施加在定位销上，使得第一锥形段给与第二锥形

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220774279U

(45)授权公告日2024.04.12

(21)申请号202322353689.3

(22)申请日2023.08.30

(73)专利权人上海集成电路装备材料产业创新

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