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磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展
杨亚飞姚草根吕宏军李启军崔子振
（航天材料及工艺研究所，北京100076）
文摘W-Ti合金靶材可作为原材料，通过磁控溅射技术，制备W-Ti、W-Ti-N、W-Ti-O等功能薄膜，应
用于集成电路、薄膜太阳能电池等领域。本文介绍了W-Ti合金靶材的性能指标、各种制备技术和应用领域，
提出高纯度、全致密、少富Ti相、小粒径、大尺寸、低成本是W-Ti合金靶材的重要方向。
关键词W-Ti合金靶材，集成电路，致密度
中图分类号：TG14DOI：10.12044/j.issn.1007-2330.2021.06.002
ResearchProgressofW-TiAlloyTargetsforMagnetronSputtering
YANGYafeiYAOCaogenLVHongjunLIQijunCUIZizhen
（AerospaceResearchInstituteofMaterials＆ProcessingTechnology，Beijing100076）
AbstractW-TialloytargetscanbeusedasrawmaterialstoprepareW-Ti，W-Ti-N，W-Ti-Oandother
functionalfilmsbymagnetronsputteringtechnology，whichcanbeusedinintegratedcircuits，thinfilmsolarcells
andotherfields.Inthispaper，theperformanceindexes，preparationtechniquesandapplicationareasofW-Tialloy
targetswereintroduced.Finally，theauthorssuggestthathighpurity，fulldensity，lessTi-richphase，smallparticle
size，largesizeandlowcostareimportantdirectionsofW-Tialloytargets.
KeywordsW-Tialloytargets，Integratedcircuits，Density
［7］
0引言静压技术。近年来，随着各种新兴技术的发展，沈
［8］
W-Ti合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性丹妮等用SPS（放电等离子烧结）技术来进行W-Ti
能和抗氧化性能等一系列优良性能，在集成电路扩合金靶材的制备研究，但是用SPS技术制备的W-Ti
［1］［2］［9］
散阻挡层、CIGS薄膜太阳能电池等方面具有广泛合金靶材密度很难达到99%以上。黄志民通过退
的应用。W-Ti合金的应用形式为薄膜，一般通过磁火热处理消除W-Ti合金靶材中的富Ti相，在1700
控溅射，将W-Ti合金靶材制备成W-Ti合金薄膜。℃时能够完全消除富Ti相，但是晶粒却明显长大。
［10］
W-Ti合金应用于集成电路扩散阻挡层已有超过40代卫丽等发现深冷处理对W-Ti合金中的富Ti相影
年历史，同样应用于集成电路扩散阻挡层的还有Ta响不大，但能明
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