单光子雪崩二极管的结构和制备方法.pdfVIP

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  • 2024-04-17 发布于四川
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单光子雪崩二极管的结构和制备方法.pdf

本发明提供一种单光子雪崩二极管的结构,包括:依次在衬底上叠设的N型掺杂InP缓冲层、InGaAs吸收层、InGaAsP组分渐变层、N型掺杂InP电荷层以及InP层;像素阵列,设置在InP层,包括有多个像素;P高掺结构,设置在InP层中的多个像素之间的区域,P高掺结构从InP层表面向衬底方向扩散至第一深度,用以抑制像素间的串扰。InP微透镜阵列,设置在衬底远离N型掺杂InP缓冲层的一端表面,InP微透镜阵列包括多个InP微透镜,InP微透镜的焦点设置在InGaAs吸收层,用于将光子聚焦至有源区中的

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117894812A

(43)申请公布日2024.04.16

(21)申请号202410051952.X

(22)申请日2024.01.12

(71)申请人中国科学院半导体研究所

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