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本发明能够实现壳体内的氧浓度降低和移载室稳定的压力控制。本发明技术包括：对搭载于舟皿的基板进行处理的处理室；将基板移载至舟皿的移载室；与移载室邻接的晶片盒搬送室；设于晶片盒搬送室的搬送室系统排气部；沿着构成搬送室的壳体的壁设置的加强构造，其与壁之间形成第一封入空间；以使壳体内的空间与第一封入空间连通的方式设于加强构造的连通孔；在壳体内与多个加强构造连接的集合管，其具有与多个第一封入空间连通的第二封入空间；向构成移载室的壳体内供给非活性气体的非活性气体供给部；及在晶片盒搬送室与集合管连接的压力调整
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111696887A
(43)申请公布日
2020.09.22
(21)申请号20191
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