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本公开涉及在光纤预制件制造过程中控制折射率分布。在一些实施方式中，改进的化学气相沉积工艺中的基管可以旋转，同时玻璃前体以固定速率流入基管中。可以将掺杂剂输送到基管中，同时向基管施加热量，以在基管的内壁上沉积包括玻璃前体和掺杂剂的材料层。用于输送掺杂剂的注入管的出口的横向位置可以在基管旋转并且向基管施加热量的同时被调节，使得沉积在基管的内壁上的材料具有方位角非均匀的掺杂浓度。可替代地，可以调节基管的旋转以在基管内产生相反的温度梯度，导致在交替通行中在基管的不同侧上发生不均匀的层沉积。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117902824A
(43)申请公布日2024.04.19
(21)申请号202310930081.4
(22)申请日2023.07.27
(30)优先权数据
63/380,2072022
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