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2024-04-21 发布于四川
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一种等离子刻蚀机的清洁装置.pdf

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本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种等离子刻蚀机的清洁装置，包括刻蚀机主体及设在刻蚀机主体内腔顶部的至少一个清洁机构，清洁机构由机械臂及清灰组件组成，机械臂的一端与刻蚀机主体的内腔顶部连接，清灰组件包括驱动箱、清灰辊及集尘箱，机械臂的另一端与驱动箱的侧壁连接，驱动箱用于驱动清灰辊旋转，清灰辊的侧壁上设有均匀分布的多个清洁件，清灰辊为中空管状结构，清灰辊的侧壁均匀设有与其内腔连通的若干通槽，通槽位于相邻清洁件之间，集尘箱用于产生负压并与清灰辊连通。在本实用新型中，清灰辊带着清洁件旋转对刻蚀机

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220821472U

(45)授权公告日2024.04.19

(21)申请号202322477175.9

(22)申请日2023.09.13

(73)专利权人江西兆驰半导体有限公司

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