2024高考化学专题08化学工艺流程分析.doc

化学工艺流程分析

1.图解明晰化学工艺流程

分离提纯的基本方法：

分离提纯的基本方法：

结晶，过滤，萃取，蒸馏……

产品纯度测定，计算产率

①通过原料与产品对比来分析保留什么元素?除去什么杂质，引入什么成分?

②通过原料价态与产品保留元素价态来分析前后价态是否一致?升高还是降低?

原料预处理：除杂、净化

原料：

无机矿物

原料循环利用

核心：

化学反应

产品分

离提纯

所需产品

增大接触面积，加快反应速率，提高浸出率。

常用的除杂净化方法有：①加化学试剂法；②调pH法；③加热等

图数信息，条件选择，结合氧化还原理论，四大平衡理论，电化学理论等考查

排放物的无害化处理

反应条件控制

2.原料预处理的六种常用方法

方法

目的

研磨

减小固体的颗粒度，增大固体与液体或气体间的接触面积，增大反应速率

水浸

与水接触反应或溶解，使可溶物进入溶液，不溶物通过过滤除去

酸浸

与酸接触反应或溶解，使可溶性金属离子进入溶液，不溶物通过过滤除去

碱浸

除去油污，溶解酸性氧化物、铝及其氧化物

灼烧

除去可燃性杂质或使原料初步转化，如从海带中提取碘时的灼烧就是为了除

去可燃性杂质

煅烧

改变结构，使一些物质溶解，并使一些杂质在高温下氧化、分解，如煅烧高

岭土

3.控制反应条件的六种常用方法

(1)调节溶液的pH。常用于使某些金属离子形成氢氧化物沉淀。调节pH所需的物质一般应满足两点：

①能与H*反应，使溶液pH变大；

②不引入新杂质，如若要除去Cu2+中混有的Fe3+,可加入CuO、Cu(OH)?或Cu?(OH)?CO?等物质来调

节溶液的pH,不可加入NaOH溶液、氨水等。

(2)控制温度。根据需要升温或降温，改变反应速率或使平衡向需要的方向移动。

(3)控制压强。改变速率，影响平衡。

(4)使用合适的催化剂。加快反应速率，缩短达到平衡所需要的时间。

(5)趁热过滤。防止某物质降温时析出。

(6)冰水洗涤。洗去晶体表面的杂质离子，并减少晶体在洗涤过程中的溶解损耗。

4.常考化工术语

关键词

释义

研磨、雾化

将块状或颗粒状的物质磨成粉末或将液体雾化，增大反应物接触面积，以加快反应速率或

使反应更充分

灼烧(煅烧)

使固体在高温下分解或改变结构、使杂质高温氧化、分解等。如煅烧石灰石、高岭土、硫

铁矿

浸取

向固体中加入适当溶剂或溶液，使其中可溶性的物质溶解，包括水浸取、酸溶、碱溶、醇

溶等

酸浸

在酸性溶液中使可溶性金属离子进入溶液，不溶物通过过滤除去的过程

过滤

固体与液体的分离

滴定

定量测定，可用于某种未知浓度物质的物质的量浓度的测定

蒸发结晶

蒸发溶剂，使溶液由不饱和变为饱和，继续蒸发，过剩的溶质就会呈晶体析出

蒸发浓缩

蒸发除去部分溶剂，提高溶液的浓度

水洗

用水洗去可溶性杂质，类似的还有酸洗、醇洗等

酸作用

溶解、去氧化物(膜)、抑制某些金属离子的水解、除去杂质离子等

碱作用

去油污，去铝片氧化膜，溶解铝、二氧化硅，调节pH、促进水解(沉淀)

5.常见的操作与思考角度

常见的操作

思考角度

加过量试剂

使反应完全进行(或增大转化率、产率)等

加氧化剂

氧化某物质，生成目标产物或除去某些离子

判断能否加其他物质

要考虑是否引入杂质(或影响产物的纯度)等

分离、提纯

过滤、蒸发、萃取、分液、蒸馏等常规操作

从溶液中得到晶体的方法：蒸发浓缩—→冷却结晶一→过滤—→(洗涤、干燥)

提高原子利用率

绿色化学(物质的循环利用、废物处理、原子利用率、能量的充分利用)

在空气中或在其他气体中进

行的反应或操作

要考虑O?、H?O、CO?或其他气体是否参与反应；或能否达到隔绝空气、防

氧化、防水解、防潮解等目的

判断沉淀是否洗涤干净

取最后一次洗涤滤液少量，检验其中是否还有某种离子存在

控制溶液的pH

①调节溶液的酸碱性，使金属离子形成氢氧化物沉淀析出(或抑制水解)

②“酸作用”还可除去氧化物(膜)

③“碱作用”还可除去油污，除去铝片氧化膜，溶解铝、二氧化硅等

④特定的氧化还原反应需要的酸性条件(或碱性条件)

控制温度

(常用水浴、冰浴或油浴)

①防止副反应的发生

②使化学平衡移动；控制化学反应的方向

③控制固体的溶解与结晶

④控制反应速率；使催化剂达到最大活性

⑤升温：促进溶液中的气体逸出，使某物质达到沸点挥发

⑥加热煮沸：促进水解，聚沉后利于过滤分离

⑦趁热过滤：减少因降温而析出的溶质的量

⑧降温：防止物质高温分解或挥发；降温(或减压)可以减少能源成本，降低

对设备的要求

洗涤晶体

①水洗：通常是为了除去晶体表面水溶性的杂质

②冰水洗涤：能洗去晶体表面的杂质离子，且防止晶体在洗涤过程中的溶解

损耗

③用特定有机试剂清洗晶体：洗去晶体表面的杂质，降低晶体的溶解度、有

利于析出