SJ 21454-2018 集成电路陶瓷封装 硅铝丝键合工艺技术要求.pdf

SJ 21454-2018 集成电路陶瓷封装 硅铝丝键合工艺技术要求.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

中华人民共和国电子行业标准

FL6130SJ21454-2018

集成电路陶瓷封装

硅铝丝键合工艺技术要求

Integratedcircuitceramicpackage-

Technicalrequirementsforaluminum-siliconwirebondingprocess

SJ21454-2018

目U吕

本标准的附录A为资料性附录。

本标准由中国电子科技集团公司提出。

本标准由工业和信息化部电子第四研究院归口。

本标准起草单位:中国电子科技集团公司第五十八研究所。

本标准主要起草人:王波、廖小平、肖汉武、朱卫良、姚昕、常乾、王燕婷。

SJ21454-2018

集成电路陶瓷封装硅铝丝键合工艺技术要求

1范围

本标准规定了军用集成电路陶瓷封装硅铝丝键合工艺(以下简称硅铝丝键合工艺〉的一般要求和对

原材料、设备、工艺流程、关键控制点及检验的详细要求。

本标准适用于军用集成电路芯片与陶瓷外壳键合区的硅铝丝模焊键合工艺。

2规范性引用文件

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注明日期的引用文件,其最后所有

的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研

究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。

GB厅25915.1-2010洁净室及相关受控环境第1部分:空气洁净度等级

GJB548B-2005微电子器件试验方法和程序

GJB3007防静电工作区技术要求

SJ21448集成电路陶瓷封装键合前检验要求

3一般要求

3.1人员

硅铝丝键合工艺人员应满足以下要求:

a)应掌握集成电路陶瓷封装工艺相关的基础知识;

b)应掌握环境保护和职业健康安全相关的基础知识;

c)应了解厂房的管理制度,自觉遵守人员着装、防静电操作要求等相关的各项规定;

d)应熟练掌握硅铝丝键合工艺所需设备和仪器的操作方法,具备相应的操作能力。

3.2设备、仪器和工装夹真

硅铝丝键合工艺所用的设备和仪器应按规定进行计量校准。工装夹具应完好无损、洁净,规格尺寸

应与工艺要求相适应。常用设备、仪器和工装夹具见表1。

表1常用设备、仪器和工装夹具

主要技术要求用途

序号名称

键合功率、时间、压力、温度可控键合硅铝丝

硅铝丝键合机

2烘箱最高温度不小于100℃,控制精度不超过士10℃键合区干’躁预处理

3

SJ21454-2018

3.3材料

硅铝丝键合工艺所使用的材料和要求见表2o

表2常用材料

名称

主要技术要求用途

序号

硅铝丝含1%的硅

键合引线

氧气纯度为99.9

文档评论(0)

lq6799 + 关注
实名认证
内容提供者

2020-05-08注册

1亿VIP精品文档

相关文档