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Ga离子辐照及衬底表面粗糙度对石墨烯性能影响的研究的开题报告

石墨烯是一种单层蜂窝状结构的二维材料，具有优异的导电性、热传导性、力学强度和化学稳定性等特性，因此具有广泛的应用前景。然而，石墨烯的制备及应用过程中，其性能常常受到材料表面结构和化学活性的影响。因此，研究石墨烯表面结构和化学活性对其性能的影响具有重要意义。

本研究旨在研究Ga离子辐照和衬底表面粗糙度对石墨烯性能的影响，并通过制备一系列不同表面结构和化学活性的石墨烯样品，探索不同表面结构和化学活性对石墨烯电子、光学和力学性能的影响。

具体研究工作包括以下方面：

1.石墨烯的制备：采用化学气相沉积方法制备石墨烯样品，并通过石墨烯的拉伸测试和光学特性表征来确定石墨烯的质量。

2.Ga离子辐照：通过Ga离子注入对石墨烯进行表面修饰，改变其表面结构和化学活性，并通过拉伸测试、Raman光谱和X射线光电子能谱对其性能进行评价。

3.衬底表面粗糙度对石墨烯性能的影响：通过改变衬底表面粗糙度来制备不同表面结构的石墨烯样品，并通过光学、电子和力学性能的测试来分析其性能差异。

本研究的预期结果包括：

1.确定Ga离子辐照和衬底表面粗糙度对石墨烯性能的影响。

2.探究不同表面结构和化学活性对石墨烯电子、光学和力学性能的影响。

3.提供一种改变石墨烯表面结构和化学活性的方法，为石墨烯的制备和应用提供理论基础。