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宁波南大光电材料有限公司
年产25吨ArF（193nm）光刻胶产品
的开发和产业化
环境影响报告书
（征求意见稿）
浙江省工业环保设计研究院有限公司
ZhejiangIndustrialEnvironmentalProtectionDesignResearchInstituteCo.,Ltd.
国环评证：甲字第2007号
2019年5月
一、项目概况
1.1建设背景
为完善我国集成电路制造的产业链，打破高档光刻胶受制于人的局面，
为国内集成电路制造业提供合格的材料、优异的技术支持和客户服务，提高
我国集成电路产业的核心竞争力，为促进相关上游产业的发展，带动相关高
纯试剂及精细化工行业的发展，提高我国材料制造的整体水平，宁波南大光
电材料有限公司拟投资25000万元，设立“年产25吨ArF（193nm）光刻胶产品
的开发和产业化”项目。
1.2建设内容
本项目总占地面积33564平方米，建筑物占地面积为6285平方米，总建筑面
积为6891平方米。项目建设内容包括生产车间，仓库，生产辅助用房等，配套建
设给排水、供电系统等公用及辅助设施。本项目将会在北仑建立国内第一个ArF光
刻胶产业化基地，最终形成我国高档光刻胶的产业化平台。建成后形成年产ArF
（193nm）光刻胶产品25吨及光刻胶配套高纯试剂70吨的生产能力，其中光刻胶
产品包括年产5吨干式ArF光刻胶、年产20吨浸没式ArF光刻胶。
1.3原辅材料消耗情况
本项目原辅材料情况见表1-1。
表1-1项目新增原辅料用量表
序号名称存储地点年用量（吨）
1丙二醇甲醚醋酸酯原料库30
2丙二醇甲醚原料库20
3环己酮原料库20
4氯化钠原料库0.1
5乙酸乙酯原料库2.12
6甲苯原料库7.06
7二氯甲烷原料库8.84
8乙醚原料库8.2
9盐酸（37%）原料库二0.095
10AIBN原料库0.13
11单体A原料库0.63
12单体B原料库0.63
13单体C原料库0.63
14单体D
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