浙江大学复试半导体薄膜技术与物理第三章.pdf

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第三章化学气相沉积

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3.1概述

外延生长

外延:在单晶基片上生长一层单晶薄膜的过程。

它是20世纪60年代初逐渐发展起来的,它解决了分立元件

和集成电路中的许多问题。

硅单晶经切、磨、抛等加工,得到抛光片就可以在其上制

作分立元件和集成电路。但在许多场合这种抛光片仅作为

机械支撑的基片,在它上面首先生长一层适当的导电类型

和电阻率的单晶薄膜,然后才把分立元件或集成电路制作

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