《溅射镀膜类型》课件.pdfVIP

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《溅射镀膜类型》ppt课件

目录

CONTENTS

•溅射镀膜简介

•溅射镀膜的类型

•各种类型溅射镀膜的特点和比

•溅射镀膜的未来发展

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01

溅射镀膜简介

溅射镀膜的定义

溅射镀膜是一种物理气相沉积技术,利用高能粒子撞击靶材表面,使靶材

原子或分子从表面逸出的过程。

该技术通过在真空环境下,利用等离子体中的离子或中性粒子轰击靶材表

面,使靶材原子或分子从表面逸出的过程。

溅射镀膜技术具有沉积速率高、成膜质量好、可大面积制备薄膜等优点。

溅射镀膜的原理

溅射镀膜的原理基于气体辉光放电现象,通过

在真空环境下引入气体,利用高压电场激发气

体产生辉光放电,从而产生等离子体。

等离子体中的离子或中性粒子在电场的作用下

加速轰击靶材表面,使靶材原子或分子从表面

逸出并沉积在基片表面形成薄膜。

溅射镀膜的原理可以通过溅射速率、基片温度、

气体压强等参数进行调节和控制。

溅射镀膜的应用领域

溅射镀膜技术广泛应用于光学、电子、

机械、航空航天等领域。

在航空航天领域,溅射镀膜可用于制造在光学领域,溅射镀膜可用于制造各种

各种高性能材料和结构件,如高温防护光学元件,如反射镜、滤光片、增透膜等。

涂层、卫星太阳能电池板等。

在机械领域,溅射镀膜可用于提高材料在电子领域,溅射镀膜可用于制造各种

的耐磨性、耐腐蚀性和硬度等性能。电子元件,如薄膜电阻、电容、电感等。

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