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《溅射镀膜类型》ppt课件
目录
CONTENTS
•溅射镀膜简介
•溅射镀膜的类型
•各种类型溅射镀膜的特点和比
•溅射镀膜的未来发展
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01
溅射镀膜简介
溅射镀膜的定义
溅射镀膜是一种物理气相沉积技术,利用高能粒子撞击靶材表面,使靶材
原子或分子从表面逸出的过程。
该技术通过在真空环境下,利用等离子体中的离子或中性粒子轰击靶材表
面,使靶材原子或分子从表面逸出的过程。
溅射镀膜技术具有沉积速率高、成膜质量好、可大面积制备薄膜等优点。
溅射镀膜的原理
溅射镀膜的原理基于气体辉光放电现象,通过
在真空环境下引入气体,利用高压电场激发气
体产生辉光放电,从而产生等离子体。
等离子体中的离子或中性粒子在电场的作用下
加速轰击靶材表面,使靶材原子或分子从表面
逸出并沉积在基片表面形成薄膜。
溅射镀膜的原理可以通过溅射速率、基片温度、
气体压强等参数进行调节和控制。
溅射镀膜的应用领域
溅射镀膜技术广泛应用于光学、电子、
机械、航空航天等领域。
在航空航天领域,溅射镀膜可用于制造在光学领域,溅射镀膜可用于制造各种
各种高性能材料和结构件,如高温防护光学元件,如反射镜、滤光片、增透膜等。
涂层、卫星太阳能电池板等。
在机械领域,溅射镀膜可用于提高材料在电子领域,溅射镀膜可用于制造各种
的耐磨性、耐腐蚀性和硬度等性能。电子元件,如薄膜电阻、电容、电感等。
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