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第一篇 半导体中的电子状态习题
、什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。
、试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。
、试指出空穴的主要特征。
、简述Ge、Si和GaAS的能带结构的主要特征。
、某一维晶体的电子能带为
E(k)?E
?1?0.1cos(ka)?0.3sin(ka)?
0
其中E0=3eV,晶格常数a=5х10-11m。求:
能带宽度;
能带底和能带顶的有效质量。
题解:
、解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥Eg)被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有
更多的电子被激发到导带中。
、解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。反之,温度降低,将导致禁带变宽。因此,Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数。
、解:空穴是未被电子占据的空量子态,被用来描述半满带中的大量电子的
集体运动状态,是准粒子。主要特征如下:
A、荷正电:+q;
B、空穴浓度表示为p(电子浓度表示为n);C、EP=-En
D、mP*=-mn*。
、解:
(1) Ge、Si:
a)Eg(Si:0K)=1.21eV;Eg(Ge:0K)=1.170eV;b)间接能隙结构c)禁带宽度Eg随温度增加而减小;
(2)GaAs:
ga)E(300K)=1.428eV,Eg(0K)=1.522eV;
g
b)直接能隙结构;
c)Eg负温度系数特性:dEg/dT=-3.95×10-4eV/K;
、 解:
(1)由题意得:
dE
?0.1aE
dk
?sin(ka)?3cos(ka)?
0
dE2
d2k
?0.1a2E
0
?cos(ka)?3sin(ka)?
令dE ?0,得tg(ka)?1
dk 3
?ka?18.4349
1
o,k
a?198.4349o
2
dE2
当ka?18.4349
1
o,
d2k
?0.1a2E
0
(cos18.4349?3sin18.4349)?2.28?10?40?0,
对应能带极小值;
当ka?198.4349
2
dE2
o,
d2k
?0.1a2E
0
(cos198.4349?3sin198.4349)??2.28?10?40?0,
对应能带极大值。
则能带宽度
?E?Emax?Emin ?1.1384eV
(2)
?? ?
?1?1?dE2?
?1
? 2.28?10?40
??1 ? ?
?m*
?? ?
?? ??? ??
?1.925?10?27kg
? n 带底
?
则?
?h2?
d2k??
k
1
??6.625?10?34
2??
?? ?
?1?dE2
???1
??2.28?10?40 ??1 ? ?
?m*
?? ?
?? ??? ??
??1.925?10?27kg
? n 带顶
?
?h2?
d2k??
k
2
??6.625?10?342??
答:能带宽度约为1.1384Ev,能带顶部电子的有效质量约为1.925x10-27kg,能带底部电子的有效质量约为-1.925x10-27kg。
第二篇半导体中的杂质和缺陷能级习题
、什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?
、什么叫施主?什么叫施主电离?施主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出n型半导体。
、什么叫受主?什么叫受主电离?受主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出p型半导体。
、掺杂半导体与本征半导体之间有何差异?试举例说明掺杂对半导体的导电性能的影响。
、两性杂质和其它杂质有何异同?
、深能级杂质和浅能级杂质对半导体有何影响?
、何谓杂质补偿?杂质补偿的意义何在?
题解:
、解:浅能级杂质是指其杂质电离能远小于本征半导体的禁带宽度的杂质。它们电离后将成为带正电(电离施主)或带负电(电离受主)的离子,并同时向导带提供电子或向价带提
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