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本发明提供一种曝光设备，包括：工件台，掩模台，光学单元，包括光源和镜组；驱动单元，用于驱动物镜和/或工件台移动；测量单元，用于测量基板和/或掩模的面形数据；以及控制单元，被配置为，在扫描曝光前，形成工件台运动轨迹和/或物镜运动轨迹，并对物镜运动轨迹进行平滑处理，形成平滑后的物镜运动轨迹；在扫描曝光时，基于工件台运动轨迹和/或平滑后的物镜运动轨迹，向驱动单元发送运动指令。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118068660A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410384564.3
(22)申请日2024.03.29
(71)申请人上海微电子装备（集团）股份有限公
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