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本发明提供一种化学气相沉积方法及设备，方法包括如下步骤：提供一工艺腔，其通过一真空管道连接真空泵，真空管道中设有调节工艺腔抽气流速的蝶阀；将晶圆装载进工艺腔，将工艺腔压力调节至工艺压力并进行化学气相沉积工艺，在进行化学气相沉积工艺时，真空端压力为小于工艺压力的第一真空压力；将工艺腔压力和真空端压力调节至卸载压力并卸载晶圆，卸载压力小于工艺压力和第一真空压力，通过调节蝶阀的开启角度调整工艺腔的压力变化速率，使工艺腔的压力始终大于真空端压力。本发明在工艺腔卸载晶圆时通过创造性的方式调节蝶阀的开启角度
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118064876A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410464724.5
(22)申请日2024.04.18
(71)申请人上海陛通半导体能源科技股份有限
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