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本申请涉及半导体制造工艺中陶瓷涂层技术领域,具体涉及一种用于静电吸盘的多孔氧化铝陶瓷涂层、制备方法及应用。本发明公开了称取原料30~60wt%氧化铝粉、1.3~2.3wt%分散剂和38.7~67.7wt%溶剂混合均匀,获得混合浆料;将混合浆料依次分散、过筛后,获得固含量为40~60wt%的氧化铝悬浮液;将氧化铝悬浮液注入雾化喷嘴对静电吸盘表面进行等离子喷涂,获得多孔氧化铝陶瓷涂层。本发明的氧化铝陶瓷涂层具有均匀的孔隙分布,改善了静电吸盘中氦气的均匀分布,从而提高晶圆加工的温度均匀性和品质,提高了
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118063196A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410477878.8
(22)申请日2024.04.19
(71)申请人成都超纯应用材料有限责任公司
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