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PZT及LNO的溅射制备及其低温晶化研究的开题报告

一、研究背景

随着微电子尺寸的不断缩小，晶体管等器件的尺寸也越来越小，这就需要更高的集成度、更高的性能。因此，需采用先进的制备工艺来制备高质量的薄膜。PZT（铅锆钛酸铁）和LNO（钛酸镧钠）是两种常用的功能陶瓷材料，具有广泛的应用前景，例如压电器件、铁电器件等。利用溅射的方法可以制备出高纯度的PZT和LNO陶瓷薄膜，并且这种方法具有制备工艺简单、成本低廉的优点。然而，为了实现更高的性能，通常需要将溅射后的薄膜进行低温晶化处理。

二、研究目的

本研究旨在探究PZT和LNO的溅射制备方法及其低温晶化处理技术，以优化薄膜的结构和性能。具体目的如下：

1.通过比较不同的溅射参数，探究制备高质量PZT和LNO薄膜的最佳条件。

2.研究不同的低温晶化处理方法，如爆破处理、激光退火等，以寻找最适合的晶化条件。

3.研究晶化处理对薄膜结构和性能的影响，例如晶粒尺寸、压电性能、铁电性能等。

三、研究内容

1.实验室制备PZT和LNO目标材料，并建立溅射制备体系。

2.通过溅射实验，探究不同的溅射参数对PZT和LNO薄膜质量的影响，例如功率、压力、温度等。

3.采用SEM、XRD等手段对溅射制备的PZT和LNO薄膜进行表征，分析其结构和性能。

4.研究不同的低温晶化处理方法对PZT和LNO薄膜晶化行为的影响。

5.采用XRD和其他相应手段对晶化处理后的PZT和LNO薄膜进行表征，分析其结构和性能。

6.结合结构和性能分析结果，分析制备和处理结果的优缺点，为优化溅射制备及低温晶化处理技术提供理论基础和实验依据。

四、研究意义

本研究通过探究PZT和LNO的溅射制备方法及其低温晶化处理技术，可以为进一步实现这些材料在微电子器件、储能器件等领域的应用提供理论和实验基础。此外，通过优化溅射制备和低温晶化处理技术，提高了薄膜的结构和性能，满足了微电子尺寸不断缩小的要求。