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本发明公开了一种外延沉积设备，所述外延沉积设备包括：基片托盘，设置于所述外延沉积设备内，用于支撑基片；上腔室盖，下腔室盖，自所述下腔室盖的中心向下延伸的石英套管；中间基环，用于固定连接所述上腔室盖和所述下腔室盖；所述石英套管内部设置有枢轴，所述枢轴的上端部与所述基片托盘连接，所述枢轴的下端部与调节机构连接；连接支撑件，所述连接支撑件的一端与所述调节机构连接，所述连接支撑件的另一端与框体连接。本发明的外延沉积设备通过连接支撑件将枢轴支撑到框体上，使得调节机构和运动机构无需直接固定于石英腔体上，增加
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118086878A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202211503556.3
(22)申请日2022.11.28
(71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公
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