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利用等离子体蚀刻设备以蚀刻高深宽比特征,该等离子体蚀刻设备可以在使低能量的反应性物质的负离子加速与使高能量的惰性气体物质的正离子加速之间交替进行。该等离子体蚀刻设备可被分成至少两个区域,其将等离子体产生空间与离子化空间分隔开。在等离子体产生空间中点燃等离子体时,可通过离子化空间中的电子附着离子化而产生反应性物质的负离子。在等离子体产生空间中等离子体熄灭时,可通过离子化空间中的潘宁离子化而产生惰性气体物质的正离子。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN113574628A
(43)申请公布日2021.10.29
(21)申请号202080021021.5(74)专利代理机构上海胜康律师事务所31263
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