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一种确定衬底栅格的测量设备(10)和方法，衬底栅格描述了光刻设备(LA)中曝光衬底(12)之前衬底(12)的变形，光刻设备(LA)配置成在衬底(12)上制造一个或多个特征。获取在衬底(12)上多个第一特征和/或多个第二特征的位置数据。获取所述多个第一特征和/或所述多个第二特征中的至少一个特征的不对称性数据。基于位置数据和不对称性数据确定衬底栅格。将衬底栅格和不对称性数据传递到所述光刻设备LA，用于控制曝光过程的至少一部分以在衬底(12)上制造一个或多个特征。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111656282A
(43)申请公布日
2020.09.11
(21)申请号20188
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