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本公开涉及一种基板处理方法、装置、计算机设备和存储介质。在喷液件的作用下，以及由于基板绕其中心轴线自转，能实现喷液件喷射的清洗液布满到基板的整个表面。此外，吹扫气体先喷出到基板表面的中心，气流接触到基板的表面时会向外扩，将基板表面上的水膜外推，随着喷气件移动至基板表面的边缘以达到水膜向外完全吹甩掉，使得基板表面上几乎没有任何残留，换言之，气流喷射方向与基板表面上的水膜无直接接触，有利于防止喷溅现象。在吹扫完基板表面之后，使基板进行高速自转，能使得基板表面上的残留物甩离基板表面，提高基板表面的干燥
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118098929A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202211439905.X
(22)申请日2022.11.17
(71)申请人长鑫存储技术有限公司
地址23
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