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本发明涉及一种不良追溯分析方法及系统、存储介质及计算机设备。所述不良追溯分析方法,包括:基于统一的量测坐标系,获取多个工艺站点中的芯粒量测数据,并分类存储芯粒量测数据;芯粒量测数据至少包括坐标值和工艺站点编号;获取目标坐标值对应的异常芯粒量测数据;根据工艺站点编号,确定异常芯粒量测数据在各工艺站点中的匹配比例;根据匹配比例,从各工艺站点中确定目标坐标值对应的风险站点。上述不良追溯分析方法可以提高不良追溯分析的时效性和精准度,从而利于实现发光二极管芯片生产工艺的风险管控,以提升生产良率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118093970A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202211444635.1
(22)申请日2022.11.18
(71)申请人重庆康佳光电科技
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