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本发明公开了一种席夫碱化合物、其制备方法及应用，所述席夫碱化合物的分子结构如下式D所示：式D中，R1为甲基或者乙基；R2为甲基、乙基或者苯基；R2为甲基或者乙基时，R3、R4为甲基或者乙基；R2为苯基时，R3、R4为H原子、甲基或者乙基。根据本发明的席夫碱化合物中包括取代水杨醛结构，在取代水杨醛的醛基对位引入酯基，酯基中的C＝O双键与苯环的大π键产生π‑π共轭，当席夫碱化合物在异构体激发光源的激发下发生烯‑酮式结构变化时，共轭结构依然稳定，加快了光开关材料的响应速度；席夫碱中胺的N原子不与苯环直
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118084721A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202410223658.2
(22)申请日2024.02.28
(71)申请人安徽省东超科技有
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