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一种用于双面抛光晶圆测量干涉仪的映射校准装置.pdfVIP

一种用于双面抛光晶圆测量干涉仪的映射校准装置.pdf

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    本实用新型属于晶圆面型干涉检测的技术领域，具体地说是一种用于双面抛光晶圆测量干涉仪的映射校准装置，包括刻蚀有映射校准关系的校准槽的透明亚克力板、晶圆测量干涉仪，通过两台晶圆测量干涉仪分别对校准槽结构进行成像，获得每台干涉仪各自的成像畸变；通过分析两台晶圆测量干涉仪之间的空间位置关系和各自的成像畸变，获得两台晶圆测量干涉仪测得的面形数据之间的映射关系，实现映射校准。本实用新型不仅能够实现对双面抛光晶圆测量干涉系统的检验与校准，而且消除了映射误差对晶圆形貌参数的影响，同时能够高精度的一次性获得晶圆的

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN221037285U

    (45)授权公告日2024.05.28

    (21)申请号202420516650.0

    (22)申请日2024.03.18

    (73)专利权人江苏省计量科学研究院（江苏省

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