磁控共溅射操作步骤.docx

开机

分子泵、各磁控靶接通冷却水，检查水路是否漏水。

各单元电源与总电源接通，总电源供电。〔启动总电源前，报警选择档指向报警；开总电源后，A、B、C灯亮〕

启动机械泵，缓慢翻开旁抽阀V2，预抽溅射室。

翻开ZDF2AK复合真空计，当示数显示4Pa时，关闭旁抽阀V2，翻开电磁阀(有动听的响声)，然后启动分子泵开关，待示数显示为零时，启动START，并马上翻开闸板阀G1〔逆时针旋转到底后略微回转〕，开头抽高真空〔7*10-5〕。

翻开计算机，进展运行参数设置。〔见后面介绍〕

到达所需真空度后〔4*10-4，或许半小时〕，预备镀膜。〔见后面介绍〕

镀膜完毕后，关闭直流或射频电源，关气路。〔见后面介绍〕

靶位自动调整程序

挡板掌握及状态各靶挡板显示与溅射室内靶挡板位置全都。假设不全都，则转变计算机上显示状态，点击“开〔关〕”按钮即可，在挡板没有到达相应的“开〔关〕”状态时，该按钮是闪耀的，到达所需状态时，按钮是亮的。

转盘掌握与状态

样品与样品挡板状态确定显示与当前溅射室内全都，假设不全都，则重标定。例如：当前溅射室内状态为样品2对应样品位置A位，样品挡板显示A位，然而计算机显示样品1对应样品位置A

位，样品挡板显示A位。拖动样品1到样品2，将弹出“样品编号”对话框，点击“否”，则可以重标定样品编号。重标定样品挡板，样品位置时也是如此操作。