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三维大孔g-C_N_吸附和光催化还原U性能研究

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CONTENTS

目录

01.

三维大孔g-C_N_的制备与表征

03.

吸附与光催化还原性能比较

02.

光催化还原U性能研究

04.

应用前景与展望

01.

三维大孔g-C_N_的制备与表征

制备方法

结构特征：大孔径、高比表面积、多孔结构

原料：石墨烯、氮化碳、碳纳米管等

制备工艺：化学气相沉积、水热法、微波辅助合成等

表征方法：X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜等

结构与形貌表征

表征技术：介绍用于表征三维大孔g-C_N_的表征技术，如XRD、SEM、TEM等

制备方法：介绍制备三维大孔g-C_N_的具体方法

形貌：三维