半导体制造工艺设计流程.docx

  1. 1、本文档共9页,其中可免费阅读4页,需付费120金币后方可阅读剩余内容。
  2. 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
  3. 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  4. 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

半导体制造工艺流程

半导体相关学问

本征材料:纯硅 9-10个

250000Ω 3

N型硅:掺入V族元素--磷P、砷As、锑SbP型硅:掺入III族元素—镓Ga、硼B

PN结:

半导体元件制造过程可分为前段〔FrontEnd〕制程

晶圆处理制程〔WaferFabrication;简称WaferFab〕、晶圆针测制程〔WaferProbe〕;

后段〔BackEnd〕构装〔Packaging〕、

测试制程〔InitialTestandFinalTest〕晶圆边缘检测系统

一、晶圆处理制程

晶圆与晶片的区分晶圆处理制程之主要工作为在矽晶圆上制作电路与电子元件,

文档评论(0)

189****1877 + 关注
官方认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

认证主体天津卓蹊信息咨询有限公司
IP属地北京
统一社会信用代码/组织机构代码
91120102MADL1U0A9W

1亿VIP精品文档

相关文档