半导体工艺复习题.docx

  1. 1、本文档共10页,其中可免费阅读4页,需付费120金币后方可阅读剩余内容。
  2. 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
  3. 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  4. 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

填空20’ 简答20’ 推断10’ 综合50’

第一单元

肯定温度,杂质在晶体中具有最大平衡浓度,这一平衡浓度就称为什么?固溶度

按制备时有无使用坩埚分为两类,有坩埚分为?无坩埚分为?〔P24〕有坩埚:直拉法、磁控直拉法

无坩埚:悬浮区熔法

外延工艺按方法可分为哪些?〔P37〕

气相外延、液相外延、固相外延和分子束外延

Wafer的中文含义是什么?目前常用的材料有哪两种?晶圆;硅和锗

自掺杂效应与互集中效应〔P47-48〕

左图:自掺杂效应是指高温外延时,高掺杂衬底的杂质反集中进入气相边界层,又从边界层集中掺入外延层的现象。自掺杂效应是气相外延的本征效应,不行能完全避开。

自掺

文档评论(0)

180****1752 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档