阳光控制低辐射涂层溶液及其制备方法和用途.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN1696221A

(43)申请公布日2005.11.16

(21)申请号CN200410009078.6

(22)申请日2004.05.11

(71)申请人中科纳米技术工程中心有限公司

地址100094北京市海淀区永丰北清路99号3号楼

(72)发明人曹新宇江雷

(74)专利代理机构上海智信专利代理有限公司

代理人李柏

(51)Int.CI

C09D163/00

C09D133/00

C09D5/00

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

阳光控制低辐射涂层溶液及其制备

方法和用途

(57)摘要

本发明涉及一种水性溶液体系的组

成及用此溶液制备阳光控制低辐射涂层的

方法，构成此涂层的溶液体系至少包含一

种掺杂金属氧化物的纳米粒子和高分子成

膜成分。该溶液体系的分散介质为水、水

和醇类、水和醇类及酯类的混合溶液，分

散介质不含苯、甲苯及毒害大的挥发成

分；该涂层的制备为常压下成膜，处理温

度不超过150摄氏度；如有必要，此涂层

可复合其它薄膜以得到更佳阳光控制和低

辐射的效果。溶液可直接涂敷于玻璃表面

和有机材料表面，不受基材的形状和尺寸

限制，具有良好的耐磨性。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种阳光控制低辐射涂层溶液，其特征是：所述的涂层溶液体系中至少包含一种

掺杂金属氧化物的纳米粒子，以及高分子成膜成份和紫外光吸收剂，其中，掺杂金

属氧化物的纳米粒子在溶液中的含量为3～30wt％，高分子成膜成份在溶液中的含

量为20～60wt％，紫外光吸收剂在溶液中的含量为0～10％；分散介质选自水；水

和醇类或醇类衍生物的混合物，其中水与醇类或醇类衍生物的体积比大于0.6；水

和醇类或醇类衍生物以及酯类或衍生物的混合物，其中酯类或酯类衍生物的总量不

高于总分散介质体积的20％；水和其它有机溶剂的混合物中的一种；

所述的金属氧化物为氧化锡、氧化锌、氧化铟、氧化钛或氧化镉；

所述的高分子成膜成份选自水溶性环氧酯、水溶性醇酸树酯、水溶性丙稀酸酯树酯、

水溶性丁二酸树酯、丙烯酸酯乳液、苯-丙乳液、有机硅改性丙烯酸乳液、聚氨酯

乳液、丙稀酸酯-聚氨酯共聚乳液、有机硅改性的聚氨酯乳液、环氧乳液、环氧改

性的聚氨酯乳液、聚酯乳液、有机硅改性的环氧乳液、有机硅聚合物水溶液、有机

硅聚合物乳液中的一种或两种；

所述的分散介质中醇类或醇类衍生物包括：乙醇、甲乙醚、乙醚、乙二醇、异丙醇、

正丙醇、丙二醇、丙二醇单甲醚、丙二醇二甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇甲乙醚、正

丁醇、丁二醇或戊二醇；

所述的分散介质中酯类或酯类衍生物包括：甲酸甲酯、乙酸乙酯、甲酸乙酯、乙酸

甲酯、乙二酸二甲酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丙二酸甲乙酯或丙二酸二乙酯；

所述的分散介质中其它有机溶剂包括：醋酸、乳酸、环氧六环、丙酮或环己酮，用

量为分散介质重量的0～30％；

所述的紫外光吸收剂选自氧化钛、氧化硅、氧化锡、氧化锌、氧化铁、氧化镉、氧

化钨、氧化锰、氧化锆、氧化铝、苯并三唑、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-

氯代苯并三唑、2-(2’羟基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、N-

(乙氧基羰基苯基)-N’-甲基-N’-苯基甲醚、N-(乙氧基羰基苯基)-N’-乙基-N’-苯基甲

醚、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2，4-二羟基二苯酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺酸二苯

酮、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑中的一种或两种。

2.根据权利要求1所述的涂层溶液，其特征是：所述的有机硅聚合物至少含有以下

重复链节中的一种：(RSiOsub1.5/sub)subn/sub

(1)、、(2)