流体处理结构、光刻设备和器件制造方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN101581887A

(43)申请公布日2009.11.18

(21)申请号CN200910140581.8

(22)申请日2009.05.08

(71)申请人ASML荷兰有限公司

地址荷兰维德霍温

(72)发明人D·J·M·狄莱克斯D·M·H·菲利浦斯C·J·G·范德顿根K·斯蒂芬斯A·J·范普登

(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司

代理人王新华

(51)Int.CI

G03F7/20

H01L21/02

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

流体处理结构、光刻设备和器件制

造方法

(57)摘要

本发明公开一种流体处理结构、一

种光刻设备和一种器件制造方法，其中实

施测量以提高弯液面发生破裂的速度。测

量包括流体处理结构中的多个流体抽取开

口的形状和多个流体供给开口的形状和密

度。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有多个在平面图上以有

角的形状配置的开口，所述流体处理结构构造成使得所述开口在使用时被取向朝向

衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台，其中

a)所述有角的形状具有半径为负的边；和/或

b)所述有角的形状具有半径在0.05-4mm范围内的角。

2.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有至少四个角和至少

四条边，每条边具有负的曲率半径。

3.如权利要求1或2所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有半径为负的边，

并且有角的形状具有至少一个平滑地弯曲的角。

4.如权利要求1-3中任一个所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有半径为

负且沿其长度的至少一部分连续地改变方向的边，和/或所述有角的形状具有半径

在0.05-4mm范围内的角。

5.如权利要求1-4中任一个所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有至少一

个平滑地弯曲的角。

6.如前面的权利要求中任一个所述的流体处理结构，其中所述开口是用于使气体和

/或液体通入所述流体处理结构的入口。

7.如权利要求1-5中任一个所述的流体处理结构，其中所述开口是用于使流体从所

述流体处理结构中流出的出口。

8.如前面的权利要求中任一个所述的流体处理结构，其中所述有角的形状的至少一

个角具有60到90度之间的角度，或75到90度之间的角度，或75到85度之间的

角度。

9.如前面的权利要求中任一个所述的流体处理结构，其中由所述开口限定且限定所

述有角的形状的线是连续的，并且具有连续改变的方向。

10.一种包括前面权利要求中任一个所述的流体处理结构的光刻设备。

11.如权利要求10所述的光刻设备，其中在使用时所述有角的形状的至少一个角指

向扫描或步进的方向。

12.一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有多个在平面图上以

第一有角的形状配置的流体抽取开口，和多个在平面图上以第二有角的形状配置的

流体供给开口，所述多个流体抽取开口和流体供给开口在使用时被取向朝向衬底和

/或构建成支撑所述衬底的衬底台，所述第一和第二有角的形状基本上是类似的，

其中流体抽取开口位于第一有角的形状的至少一个角的顶点处，和/或流体供给开

口位于第二有角的形状的至少一个角的顶点处。

13.一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有多个在平面图上以

有角的形状配置的开口，所述流体处理结构构造成使得所述开口在使用时被取向朝

向衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台，其中所述开口在角附近比其他位置更

靠近地间隔。

14.一种器件制造方法，包括：

提供流体在投影系统和衬底之间；和

通过施加负压到流体处理结构中的多个开口上而从所述衬底和所述投影系统之间重

新回收液体，所述开口在平面图上以有角的形状