版图二划分方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN102521425A

(43)申请公布日2012.06.27

(21)申请号CN201110328029.9

(22)申请日2011.10.25

(71)申请人清华大学

地址100084北京市海淀区清华园1号

(72)发明人蔡懿慈姚海龙邓超

(74)专利代理机构北京中伟智信专利商标代理事务所

代理人张岱

(51)Int.CI

G06F17/50

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

版图二划分方法

(57)摘要

本发明公开一种版图二划分方法，

为解决现有光刻工艺中因版图密度过大而

降低产品质量的缺陷而设计。本发明版图

二划分方法将版图中图形间距小于最小光

刻距离的图形划分成为两个子版图，通过

两次光刻刻蚀得到版图图形；当分成为两

个子版图后所述子版图中图形间距仍小于

最小光刻距离时，将版图中图形分割成至

少两个子图形，以所述子图形为单位将间

距小于最小光刻距离的子图形划分为两个

子版图，通过两次光刻刻蚀在基片上得到

版图图形；当无法用分割的方法得到子版

图的版图区域进行标注。本发明版图二划

分方法应用于大规模集成电路的版图设计

和产品制造领域，使用方便，准确性高。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种版图二划分方法，其特征在于：将版图中图形间距小于最小光刻距

离的图形划分成为两个子版图，通过两次光刻刻蚀得到版图图形；当分成为

两个子版图后所述子版图中图形间距仍小于最小光刻距离时，将

版图中图形分割成至少两个子图形，以所述子图形为单位将间距

小于最小光刻距离的子图形划分为两个子版图，通过两次光刻刻

蚀在基片上得到版图图形；将无法用分割的方法得到子版图的版

图区域进行标注。

2.根据权利要求1所述的版图二划分方法，其特征在于，所述方法包括下

述步骤：

将版图中的多边形和矩形信息存入OpenAccess平台的数据结构中；

将存贮的多边形按序划分得到至少一个矩形；

计算两矩形间的间距值，当所述间距值小于最小光刻距离时判定所述两矩

形所在多边形存在冲突关系，形成冲突图；

在存在冲突关系的多边形上通过几何计算得到切割保护层信息，所述切割

保护层是所述多边形边缘上所有与其它多边形间距离小于最小光刻距离的点

的集合；

将所述冲突图划分成为多个冲突子图；

在多边形上确定切割位置；

沿所述切割位置形成分割边；

在所述冲突图中确定无法分割的区域，并标注；

生成翻转图；

通过对所述翻转图的计算得到划分结果。

3.根据权利要求2所述的版图二划分方法，其特征在于：所述多边形划分

得到至少一个矩形所按的顺序为逆时针顺序或顺时针顺序。

4.根据权利要求2所述的版图二划分方法，其特征在于：冲突图通过广度

优先搜索算法划分成为多个冲突子图。

5.根据权利要求4所述的版图二划分方法，其特征在于，冲突子图的划分

步骤包括：任选冲突图中一个图形形成冲突子图，通过广度优先搜索算法将

由冲突边连接起来的图形加入到所述冲突子图中，当所述冲突子

图中的所有图形与所述冲突子图外的图形之间没有冲突关系时冲

突子图形成完毕。

6.根据权利要求2所述的版图二划分方法，其特征在于，在多边形上确定