MEMS深硅刻蚀工艺研究报告.docx

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MEMS深硅刻蚀工艺

争论报告

学 院:机械与材料工程学院班 级:机械14-5

姓 名:

学 号:指导教师:

名目

1、 背景 3

2、 ICP干法刻蚀原理 6

3、 ICP刻蚀硅试验 8

、光刻工艺

、ICP刻蚀硅工艺

背景

一、什么是MEMS

微机电系统〔MEMS,Micro-Electro-MechanicalSystem〕,也叫做微电子机械系统、微系统、微机械等,是指尺寸在几毫米乃至更小的高科技装置,其内部构造一般在微米甚至纳米量级,是一个独立的智能系统。主要由传感器、动作器〔执行器〕和微能源三大局部组成。MEMS是在微电子技术〔半导体制造技术

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