软光刻介绍完整版本.pptVIP

软光刻技术主要内容什么是PolyMEMS什么是软光刻为什么要使用软光刻?详细的软光刻工艺弹性模的制作材料的选取设备应用一、什么是PolyMEMS光刻技术“光刻”就是利用某些特殊的材料（例如光敏性的光刻胶）在电磁波照射下发生的物理或化学性质的变化（例如材料溶解性的增加或降低）来进行微加工的技术。按电磁辐射源的种类来分，光刻技术可分为：以光子为辐射源：紫外光-UV（350～450nm）：0.35～0.25μm深紫外光-DUV（248nm和193nm）：O.25～0.18μm和0．18μm～90nm；90～65nm极紫外光-EUV（1～25nm）：13～16nmX-射线（O.8nm）：高能粒子为辐射源（电子和离子）光刻技术。二、什么是软光刻软光刻技术是1993年由美国Harvard大学的Whitesides研究小组首先发展的，涉及传统光刻、有机分子（例如硫醇和硅氧烷等）自组装、电化学、聚合物科学等领域的一类综合性技术的统称。主要特征是采用PDMS制成的表面具有微观图案的印章或模具来进行微观结构的复制。与传统的光刻技术相比，PDMS模具的制备比较容易，而且成本低。难以突破100nm的微小尺寸需要特定的光敏材料才可进行光刻不适于在曲面上进行价格昂贵三、为什么要使用软光刻四、详细的软光刻工艺自组织形成的单层有机膜(SAMs)所谓自组织就是指分子或物体通过非共价键作用而自发形成稳定的、确定的结构。由于最终的结构接近热动力学平衡，所以能自发形成并阻止缺陷的产生。自组织结构比非自组织结构更具有有序性，自组织是普遍的自然现象：如蛋白质和tRNA折叠和DNA的双螺旋结构，都显示了其在微制造中的潜力。自组织形成的单层有机膜(SAMs)采用传统高精度光刻技术产生原始印模后，将印模的微细结构复制在聚合物上。用紫外照射或加热放射使不含溶剂的预聚物固化；预聚物浸注于印模上，然后固化；剥离聚合物；再铸模的优点是一步就可以制作出复杂的三维结构。PDMS印模被放置于基底上，然后将预聚物置于毛细管的一端；由于毛细作用，预聚物会自发的逐渐充满毛细管印模；预聚物必须具有低粘度，且与印模紧密接触，以确保液态预聚物充满毛细管印模；预聚物充满毛细管印模后，进行固化；五、弹性印章的制作在软光刻中，通常浇铸铸模获得PDMS弹性印模和弹性模。目前已有快速廉价地制作特征尺寸大于或等于20μm的主模。具体步骤如下：先用ConventorWare、AutoCAD等专业设计软件设计出图案，再用高精度的激光打印机（3387dpi）将图案打印到透明的聚合物模上。该方法几小时内就可制得光掩膜。六、材料的选取典型材料聚二甲基硅氧烷(PDMS)Polydimethylsiloxane(PDMS)中文名为聚二甲基硅氧烷。它是软光刻技术中最常用的弹性模材料，相对于其他弹性材料如聚氨酯（Polyurethanes）、聚酰亚胺（Polyimldes）和Novolac树脂等等PDMS具有下面的特点：①它是一种弹性材料，能满足底物表面大面积成模的要求并与底物有良好接触一致性，能用于非平面的表面微图案复制。②其成模界面自由能较低且化学惰性，制模过程中的吸附底物表面过程可逆，处理后易于取下；底物与PDMS表面不发生化学反应，这个性质对于微流体沟道来说是非常重要的。③PDMS是各向同性的，且典型透射可深入约300μm，具有良好的光学特性，可应用于多种光学检测系统。④PDMS是一种耐久性材料，有良好的绝缘性和热学稳定性，在几个月内可重复使用100次而无明显退化现象，价格便宜，可大规模生产，制备容易。⑤PDMS具有很好的柔性，这样使得它可以与相对粗糙的表面很好的接触，这个特性使得PDMS成为一种很好的浇铸材料。缺点：坍塌重力引起的下垂收缩DowCorningSylgard184硅橡胶（PDMS）DowCorningSylgard184硅橡胶是液体组分套件产品，包括基本组分(base)与固化剂(curingagent)，基本组分与固化剂按一定比例混合后在25℃－150℃的温度范围内固化，无放热现象，无需二次固化。固化过程完成后，可立即在-55－220℃的温度范围内使用。Norland紫外固化光学胶NOA73NOA73的化学名称是聚亚胺脂（PolyUrethane），通过紫外光固化，对波长为350nm-380nm的紫外光具有最大吸收。NOA73粘结物可以用氯基溶液（如亚甲基氯）分离。NOA73内含粘结促进剂，对玻璃、玻璃填充、或陶瓷绑定提