光掩膜技术基础.pptx

——光掩膜技术基础

2008年04月19日

瞿立成

2008-4-181

概况

2006年12月15日初版，内容共7章、323页。

作者

田边功

曾任（株）日立制作所武藏工厂Mask课长、HOYA（株）八王子工厂长等

竹花洋一

曾任（株）日立制作所主任技师、

HOYA（株）八王子工厂长等

法元盛久

曾任（株）日立制作所部门负责人、DNP（株）主席研究员等

译者

高昂、徐文权、刘元、李云峰、瞿立成

关于《光掩膜技术》一书

2008-4-182

序号

内容

页码

Part1

光刻与光掩膜

4-13

Part2

光掩膜基本知识

14-20

Part3

光掩膜制作基础工艺

21-38

Part4

光掩膜基本品质

39-41

2008-4-183

目录

第一部分：光刻与光掩膜

Part1：LithographyandMask

2008-4-184

光刻（Lithography/Photolithography）：

将光掩膜上的图形通过光学方式转印到平板上的技术称为光刻技术。

根据制作图形目的不同，作为转印对象的平板也就是基板（Substrate）材质也会有所不同。制造LSI时用的是硅片，制造FPD时用的是玻璃板，

制造PCB时用的是树脂板。

1.1何谓光刻

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接触

掩膜基板

掩膜图形

光刻胶膜

产品基板

间隔 几十微米

接触式曝光

（ContactPrinting）

接近式曝光

（ProximityPrinting）

1.2光学转印的主要曝光方式（1）

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光源

光源

照明系统

照明系统

同时扫描

照明系统

掩膜图形

等倍投影反射式

成像光学系统

光刻胶膜

产品基板

照明系统

缩小投影透射式

成像光学系统

扫描

等倍投影曝光

（ProjectionPrinting）

缩小投影曝光

（StepRepeatPrinting）

1.2光学转印的主要曝光方式（2）

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光源

光源

掩膜基板

/↓\

光掩膜（Mask/Photomask）：

所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版，是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形（MaskPattern），并通过曝光将图形转印到产品基板之上。

1.3何谓光掩膜

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