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射频磁控溅射与离子束对比.pdfVIP

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  • 2024-08-05 发布于北京
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射频磁控溅射与离子束对比.pdf

    射频磁控溅射与离子束溅射技术的进一步对比

    射频磁控溅射

    射频磁控溅射是一种溅射镀膜法，它对阴极溅射中电

    子使基片温度上升过快的缺点加以改良，在被溅射的靶极（阳

    极）与阴极之间加一个正交磁场和电场，电场和磁场方向相互

    垂直。当镀膜室真空抽到设定值时，充入适量的氩气，在阴极

    (柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加几百伏电压，便

    在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，氩气被电离。在正交的

    电磁场的作用下，电子以摆线的方式沿着靶表面

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