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CVD氧化锡薄膜里的雾化起因

摘要：掺杂锑的氧化锡薄膜、掺杂氟的氧化锡/掺杂锑的氧化锡的双

层膜的原始雾化态已经被研究过，两者都用化学气相沉积法沉积在钠

硅钙的浮法玻璃基体上。这些透明、导电的氧化物薄膜在生产建筑用

阳光控制玻璃产品时作用很大。因此，了解雾化的起因对开发雾化水

平比较低的、具有红外反射功能的镀膜玻璃来说是必要的。将样品的

雾化程度与表面粗糙度和孔类缺陷的浓度联系起来并与与抛光样品

做了对比。表面粗糙度通过原子力显微镜来评价并通过估计的RMS

值来表示其特征。当氧化锡的薄膜比较薄时（200nm）,内部的孔洞

缺陷是引起雾化的原因；而当氧化锡膜比较厚时（400nm）表面粗

糙度是雾化的起源。

1、简介

具有红外反射和阳光控制性能的玻璃产品在建筑和汽车方面得

到了广泛的应用。在冬天降低热量消耗、在夏天减少制冷量和保护内

部物体的表面使之免受射线损害，这些是当前玻璃研究中的一部分重

点。玻璃表面上镀膜和调整玻璃成分是达到这些目标的两个最基本途

径。因为薄膜的反射性，因此普遍采用在玻璃表面大面积镀膜来进行

热量和阳光控制。在玻璃表面大范围镀膜可以通过真空溅射沉积法或

一种常压下热解技术实现。热解技术可以生产出了比真空技术更耐久

实用的氧化物薄膜。在线CVD充分利用了玻璃