【英语版】国际标准 ISO 14237:2000 EN 表面化学分析 二次离子质谱法 利用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度 Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials.pdf

ISO14237:2000标准是关于表面化学分析的，具体来说是二次离子质谱法（SIMS）中硅材料中硼原子浓度的测定。这个标准主要关注的是硅材料中硼原子浓度的测定，使用的是均匀掺杂材料。

二次离子质谱法（SIMS）是一种高分辨率表面分析技术，它通过向样品发射二次离子，利用电场将离子收集并测量，从而产生高分辨率的表面化学或元素分布信息。这种方法可以提供非常详细和精确的表面分析结果。

在均匀掺杂材料中，硼原子会与硅原子结合，形成硼硅酸盐。因此，通过测量样品中硼原子的浓度，可以了解硼在硅材料中的分布和浓度。这种分析方法对于了解材料中硼元素的存在和行为，以及其在材料性能中的作用具有重要意义。

ISO14237:2000标准提供了一种使用SIMS技术测定硅材料中硼原子浓度的方法，该方法利用了均匀掺杂材料的特性，通过SIMS技术提供了一种高分辨率、精确和可靠的表面分析方法。这个标准对于科研、材料科学、半导体制造等领域具有重要意义。