【英语版】国际标准 ISO 17109:2015 EN Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single .pdf

ISO17109:2015EN表面化学分析—深度分析—X射线光电子能谱法、二次离子质谱法中溅射速率确定以及单层和多层薄膜溅射深度分析方法，标准内容概述：

ISO17109是关于表面化学分析的标准，它涵盖了深度分析的技术，特别是在X射线光电子能谱法(XPS)、Auger电子光谱法(AES)和二次离子质谱法(SIMS)中使用溅射速率确定的方法。这个标准详细描述了如何使用单层和多层薄膜进行溅射深度分析。

主要部分和详细解释：

1.**定义**：标准定义了各种术语和概念，例如“溅射”、“深度分析”、“X射线光电子能谱”、“Auger电子光谱”和“二次离子质谱”。

2.**溅射率测定方法**：这部分详细解释了如何使用X射线光电子能谱法、Auger电子光谱法和二次离子质谱法进行溅射率测定。它特别强调了单层和多层薄膜的应用，以及如何通过测量溅射粒子在薄膜上的沉积率来推断深度分布。

3.**应用范围**：该标准明确了该方法适用于各种材料，包括金属、合金、氧化物和其他化合物。它还指出该方法可用于研究表面化学组成、结构和厚度变化。

4.**局限性**：尽管该方法提供了深度分布信息，但它可能受到多种因素的影响，如表面污染、样品温度等。标准也指出这种方法可能不适用于研究非常薄的或高度分散的薄膜。

5.**测试步骤**：这部分详细描述了测试的具体步骤，包括样品准备、设备设置、数据收集和分析等。

6.**附录和参考文献**：标准的附录提供了关于实验设备和方法的详细信息，而参考文献提供了对相关研究和文献的引用。

总结：ISO17109标准提供了一种用于表面化学分析深度分布的方法，特别强调了使用单层和多层薄膜以及如何通过溅射速率来确定深度分布。虽然存在一些局限性，但这种方法提供了一种有价值的技术，可用于研究表面化学组成、结构和厚度变化。