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磁控溅射制备CrAlSiN膜关键工艺及其综合性能

摘要

本论文针对课题组前期对磁控溅射CrAlSiN纳米复合膜的制备及研究成果，进行了系统的分析和总结，在认真查阅和分析了国内外本领域的研究进展的基础上，较为全面的分析了膜层优化成分，适宜工艺，膜层本证性能和相结构等对膜层抗高温性能的影响，归纳总结内容如下：

利用多靶磁控溅射纳米膜层系统，优化设计前期薄膜沉积工艺，在硬质合金基体表面制备出CrAlSiN纳米复合硬质膜层，表征膜层的表面形貌、成分组成、相结构、硬度、弹性模量等各项性能指标；通过基材—过渡层—工作层的膜层结构设计以及等离子体表面活化等基体处理工艺，研究解决膜基结合力增